Nassprozessanlage

Zufrieden mit der Resonanz

auf ihre neue Half-Space-Nassprozessanlage Centurio ist AP&S International. Das Unternehmen ist Entwickler und Hersteller von nasschemischen Reinraumanlagen und -geräten zur Oberflächenbehandlung von Substraten. Der Schwarzwälder Hersteller verspricht mit der neuen vollautomatischen 8-Zoll-Nassprozessanlage ein innovatives Konzept zur Produktivitätssteigerung von 200-mm-Fabs.

Die eingesetzte Half-Space-Technologie erlaubt den Prozess von 100 statt der bekannten 50 Wafer. Weiterhin maßgebend für die Entwicklung von Centurio waren die Anforderungen aus der Automotive- und ASICS-Branche. Hier müssen flexible Batch-Größen gehandelt werden, bei gleichzeitiger Erweiterung des Produkt-Portfolios. Die Batch-Größe ist bei dem neuen System flexibel wählbar (25, 50 oder 100 Wafer), was eine optimale Anpassung an die Prozessanforderung und den Durchsatz ermöglicht. Durch den Einsatz der Anlage werden die Lagerkosten für Ersatzteile geringer und der Chemikalienverbrauch niedriger. Ein weiterer Vorteil ist die Möglichkeit das Produkt-Portfolio zu erweitern.

Aufgebaut auf der bereits im Einsatz befindlichen und bewährten Plattform der AP&S A-Serie, einem „Arbeitstier“ unter den Nassprozessanlagen, arbeitet die Centurio zuverlässig und hat bewährte Komponenten mit einer bekannten Software. Die vollautomatische Nassprozessanlage ist für alle gängigen Ätz- und Reinigungsanwendungen für verschiedene Materialen mit einem effizienten Spülprozess und einer innovativen Trocknungstechnologie ausgelegt. Das Design ist kompakt und flexibel und unterstützt beim Service durch anwenderfreundliches Handling. ms

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